路维光电:已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品量产
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02-26
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快讯摘要
路维光电:已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品量产:路维光电近期在接受调研时表示,目前公司已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品的量产,可应用于MOSFET、IGBT、MEMS、SAW、先...
快讯正文
路维光电:已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品量产:路维光电近期在接受调研时表示,目前公司已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品的量产,可应用于MOSFET、IGBT、MEMS、SAW、先进封装等半导体制造领域;同时,公司通过自主研发,储备了150nm制程节点半导体掩膜版制造技术,可以覆盖第三代半导体相关产品。
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